鋁氧化所用的電解液一般為中等溶解能力的酸性溶液，鉛作為陰極，僅起導(dǎo)電作用。鋁以及其鋁合金制品進(jìn)行陽(yáng)極氧化時(shí)，鋁氧化在陽(yáng)極作用下發(fā)生了下列的反應(yīng)：2Al--->6e-+2Al3+；在陰極的作用下發(fā)生下列反應(yīng)：6H2O+6e---->3H2+6OH-；同時(shí)其酸對(duì)鋁及制品的生成的氧化膜進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)溶解，其反應(yīng)為：2Al+6H+--->2Al3++3H2；Al2O3+6H+--->2Al3++3H2O氧化膜的生長(zhǎng)過(guò)程就是氧化膜不斷生成和不斷溶解的過(guò)程。

無(wú)孔層形成。通電在剛開始的幾秒鐘到幾十秒的時(shí)間之內(nèi)，鋁表面立即生成一層致密的、具有很高絕緣性能的鋁氧化膜層，厚度約0.01～0.1微米，為一層連續(xù)的、無(wú)孔的薄膜層，我們稱之為無(wú)孔層或者是阻擋層，此膜的出現(xiàn)阻礙了電流的通過(guò)和膜層的繼續(xù)增厚。無(wú)孔層的厚度與形成的電壓大小成正比關(guān)系，與氧化膜在電解液中的溶解速度成反比。因此，曲線ab段的電壓就表現(xiàn)出其由零開始急劇增大至其大值。多孔層形成。隨著其鋁氧化膜的生成形成，電解液對(duì)膜的溶解作用也就開始了。由于生成的氧化膜并不均勻，在膜薄的地方將首先被溶解出空穴來(lái)，電解液就可以通過(guò)這些空穴到達(dá)鋁的新鮮表面，電化學(xué)反應(yīng)得以繼續(xù)進(jìn)行，電阻減小，電壓隨之下降（下降幅度為比較高的值為10～15%），膜上出現(xiàn)多孔層。

多孔層增厚。陽(yáng)極氧化約20s后，電壓進(jìn)入比較平穩(wěn)而緩慢的上升階段。表明無(wú)孔層在不斷地被溶解形成多孔層的同時(shí)，新的無(wú)孔層又在生長(zhǎng)，也就是說(shuō)氧化膜中無(wú)孔層的生成速度與溶解速度基本上達(dá)到了平衡，故無(wú)孔層的厚度不再增加，電壓變化也很小。但是，此時(shí)在孔的底部氧化膜的生成與溶解并沒有停止，他們?nèi)栽诓粩噙M(jìn)行著，結(jié)果使孔的底部逐漸向金屬基體內(nèi)部移動(dòng)。隨著氧化時(shí)間的延續(xù)，孔穴加深形成孔隙，具有孔隙的膜層逐漸加厚。當(dāng)膜生成速度和溶解速度達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡時(shí)，即使再延長(zhǎng)氧化時(shí)間，氧化膜的厚度也不會(huì)再增加，此時(shí)應(yīng)停止陽(yáng)極氧化過(guò)程。